光學鍍膜的實際作業流程簡化

光學鍍膜的實際作業流程簡化如下：

（一）基材以超音波洗淨機洗淨，洗淨後排上夾具，送入鍍膜機，開始加熱及抽真空。

達到高真空後，開始鍍膜。

（二）鍍膜製程進行時，以電子槍或電阻式加熱，將鍍膜材料變成離子態，由於鍍膜機

內為高真空狀態，離子態的鍍膜材料可順利抵達基材。

材料搭配：一般多層膜會以高折射材料及低折射材料搭配，常見的高折射材料如氧化鈦系(TiO2, Ti3O5)或氧化鉭(Ta2O5)，低折射材料如氧化矽系(SiO2)或氟化鎂(MgF2) ，有時還會搭配中折射材料如氧化鋁(Al2O3)或氧化鋯(ZrO2)。

鍍膜時間：則視層數及程式不同而有長短，數十分鐘至幾小時不等。鍍膜完畢後，待溫度冷卻後取出。而鍍膜後的玻璃，由於具有干涉光線及過濾某些波長的功用，統稱為光學干涉濾光片。

光學鍍膜技術門檻高：主要原因為，產品以外包加工方式處理，造成製造成本過高、出貨時間難以掌控等問題，良率的不穩定更是一大隱憂。再則外包鍍膜加工時產品已接近成品，不佳的良率將導致公司嚴重損失，並影響產品交期。

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資料來源：

岳華展光電股份有限公司

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