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2016/03/11
光學鍍膜的實際作業流程簡化
光學鍍膜的實際作業流程簡化如下:
(一) 基材以超音波洗淨機洗淨,洗淨後排上夾具,送入鍍膜機,開始加熱及抽真空。
達到高真空後,開始鍍膜。
(二) 鍍膜製程進行時,以電子槍或電阻式加熱,將鍍膜材料變成離子態,由於鍍膜機
內為高真空狀態,離子態的鍍膜材料可順利抵達基材。
材料搭配:一般多層膜會以高折射材料及低折射材料搭配, 常見的高折射材料如氧化鈦系(TiO2, Ti3O5)或氧化鉭(Ta2O5),低折射材料如氧化矽系(SiO2)或氟化鎂(MgF2) ,有時還會搭配中折射材料如氧化鋁(Al2O3)或氧化鋯(ZrO2)。
鍍膜時間:則視層數及程式不同而有長短,數十分鐘至幾小時不等。鍍膜完畢後,待溫度冷卻後取出。而鍍膜後的玻璃,由於具有干涉光線及過濾某些波長的功用,統稱為光學干涉濾光片。
光學鍍膜技術門檻高:主要原因為,產品以外包加工方式處理,造成製造成本過高、出貨時間難以掌控等問題,良率的不穩定更是一大隱憂。再則外包鍍膜加工時產品已接近成品,不佳的良率將導致公司嚴重損失,並影響產品交期。
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資料來源:
岳華展光電股份有限公司
http://www.digitimes.com.tw/tw/dt/n/shwnws.asp?cnlid=13&cat=2&id=0000123135_A1K2I58R2ON0VD6T36ZIL#ixzz2lASRA6pq
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