什麼是蒸鍍?

蒸鍍(deposition），將金屬和酸化物等蒸發，使其於素材的表面附著形成一層薄膜的一種方法。蒸鍍可大略分為物理蒸鍍（PVD）與化學蒸鍍(CVD)兩種。

物理氣相沉積（PVD）是主要利用物理過程來沉積薄膜的技術。其適用範圍廣泛，幾乎所有材料的薄膜都可以用物理氣相沉積來製備，但是薄膜厚度的均勻性是物理氣相沉積中的一個問題。

物理氣相沉積處理方法，又可分為真空蒸鍍( Vacuum Evaporation)、濺射(Sputtering)、脈衝雷射沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD）等三種型態。

真空蒸鍍：在達真空的容器中，將欲蒸鍍的材料加熱直至汽化昇華，並使此氣體附著於放置在附近的基板表面上、形成一層薄膜。為最簡單的PVD方法。

濺鍍（濺射）法：是在輝光放電的環境下，利用動量傳遞的方式，以離子轟擊置於陰極的靶材，將靶原子濺射出來並沈積於基板上。

脈衝雷射沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD）：是一種利用聚焦後的高功率脈衝雷射於真空腔體中對靶材進行轟擊，由於雷射能量極強，會將靶材汽化形成電漿蕈狀團(plasma plume)，並沉澱於基板上形成薄膜。

參考資料來源:

http://www.luming.com.tw:8080/prod02.php